Epitaxie von Metallaufdampfschichten

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Epitaxie bezeichnet das orientierte Wachstum dünner Schichten auf kristallinen Unterlagen, wobei idealerweise einkristalline Schichten entstehen, die die Kristallorientierung der Unterlage fortsetzen. Um Epitaxie zu erreichen, sind oft erhöhte Temperaturen während des Aufdampfprozesses erforderlich. Adsorptionsschichten auf den kristallinen Unterlagen spielen ebenfalls eine wichtige Rolle. In der vorliegenden Arbeit wurde die Epitaxie von Eisenschichten auf Steinsalz-Spaltflächen unter Einfluss des H0-Partialdrucks untersucht. Das Interesse an einkristallinen Schichten liegt darin, dass ihre physikalischen Eigenschaften besser mit denen des kompakten Materials verglichen werden können als bei polykristallinen Schichten mit unregelmäßiger Kristallorientierung, die bei der Abscheidung auf amorphen Unterlagen entstehen. Die Studie beleuchtet die Bedingungen zur Erzeugung kristalliner Wismut- und Eisen-Aufdampfschichten. Wismut, das sich an der Grenze zwischen Metallen und Halbleitern befindet, weist einen relativ hohen und anisotropen Hall-Effekt auf, dessen Vorzeichen je nach Orientierung variieren kann. Der Hall-Koeffizient eignet sich zur Messung magnetischer Felder mit Hall-Sonden. Um den Einfluss der Schichtdicke auf den Hall-Effekt zu untersuchen, wurden Messungen an einkristallinen Schichten verschiedener Orientierungen durchgeführt. Ein positives Vorzeichen des Hall-Effekts wird erwartet, wenn die (lll)-Ebene parallel zur