Kniha momentálne nie je na sklade
Parametre
Viac o knihe
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
Nákup knihy
Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie, Stephan Altmannshofer
- Jazyk
- Rok vydania
- 2019
Akonáhle sa objaví, pošleme e-mail.
Platobné metódy
Nikto zatiaľ neohodnotil.